TCO ----- Fraunhofer IST Szyszka group

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://www.ist.fraunhofer.de/english/competencies/function/transparent/frames.html

particular technical relevance are the TCO systems SnO2:Sb, ZnO:In and ZnO:Al produced by the reactive sputtering of doped, metallic targets. Especially high-grade coating properties can be achieved by the reactive MF magnetron sputtering of ZnO:Al:
Low specific coating resistance (r < l =" 380...780">

1.
Jager S, Szyszka B, Szczyrbowski J, et al.

Comparison of transparent conductive oxide thin films prepared by a.c. and d.c. reactive magnetron sputtering

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 98 (1-3): 1304-1314 JAN 1998

Times Cited: 43
2.
Szyszka B

Transparent and conductive aluminum doped zinc oxide films prepared by mid-frequency reactive magnetron sputtering

THIN SOLID FILMS 351 (1-2): 164-169 AUG 30 1999

Times Cited: 29
3.
Szyszka B, Jager S

Optical and electrical properties of doped zinc oxide films prepared by ac reactive magnetron sputtering

JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS 218: 74-80 SEP 1997

Times Cited: 25
4.
Jiang X, Jia CL, Szyszka B

Manufacture of specific structure of aluminum-doped zinc oxide films by patterning the substrate surface

APPLIED PHYSICS LETTERS 80 (17): 3090-3092 APR 29 2002

Times Cited: 20
5.
Malkomes N, Vergohl M, Szyszka B

Properties of aluminum-doped zinc oxide films deposited by high rate mid-frequency reactive magnetron sputtering JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS 19 (2): 414-419 MAR-APR 2001

Times Cited: 14
6.
Hong RJ, Jiang X, Szyszka B, et al.Studies on ZnO : Al thin films deposited by in-line reactive mid-frequency magnetron sputtering APPLIED SURFACE SCIENCE 207 (1-4): 341-350 FEB 28 2003 Times Cited: 13
7.
Szyszka B, Sittinger V, Jiang X, et al.Transparent and conductive ZnO : Al films deposited by large area reactive magnetron sputtering THIN SOLID FILMS 442 (1-2): 179-183 OCT 1 2003 Times Cited: 9
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Muller J, Schope G, Kluth O, et al.

State-of-the-art mid-frequency sputtered ZnO films for thin film silicon solar cells and modules

THIN SOLID FILMS 442 (1-2): 158-162 OCT 1 2003

Times Cited: 8
9.
Hong RJ, Jiang X, Szyszka B, et al.

Comparison of the ZnO : Al films deposited in static and dynamic modes by reactive mid-frequency magnetron sputtering

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 253 (1-4): 117-128 JUN 2003

Times Cited: 7
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Hunsche B, Vergohl M, Neuhauser H, et al.

Effect of deposition parameters on optical and mechanical properties of MF- and DC-sputtered Nb2O5 films

THIN SOLID FILMS 392 (2): 184-190 JUL 30 2001

Times Cited: 7

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关于blogger被封及其解决方法

感谢GWF特别厚待，最近在大陆无法正常访问blogger上所有博客，当然包括本博客。
对大陆用户，如下转帖2个不错的解决方法:
如果你是博客主，请按方法一处理；
如果你只是想访问本博客，直接点击：http://www.pkblogs.com/xbimr 即可访问

方法一：
转自：小鱼博客 http://www.pkblogs.com/yurenbo/2007/06/blogspotcom.html

blogspot.com被封的解决办法
有时访问不了本博客怎么办呢，等几天？等不及，坚决支持本站？真是好哥们儿！有办法：
打开记事本，将以下的内容粘贴进去，并保存为proxy.pac文件，可以放在c:\。

function FindProxyForURL(url, host)
{
if ( dnsDomainIs(host, ".blogspot.com"))
return "PROXY 72.14.219.190:80";
else
return DIRECT;
}

打开IE-->工具-->internet选项-->连接-->局域网设置，选中使用自动配置文件。输入刚才新建的pac文件地址，如：file://c:/proxy.pac。这样你就可以在ie下正常访问所有blogspot博客网站了
方法二：

如果只是要访问Blogspot的话，个人推荐http://www.pkblogs.com/，它是PKBLOG专为我们这些生活在中国、印度等经常封Blogspot的BLOGGER设计的。
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SCI literature survey ---- Transparent conducting oxide

Key words: Transparent conducting oxide* from 1991-2007
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ZnO Transistors 大杂烩

最近看了些关于氧化物TFTs，特别是ZnO Transistors的文献资料。暂时没有时间整理，大致将主要信息堆切上来；见人见智，各取所需。

几个相关Groups和站点：

USA：

http://web.engr.oregonstate.edu/~jfw/

http://www.physics.orst.edu/~tate/

http://www.ece.rutgers.edu/~ylu/research.html#Device

Europe：

http://www.cenimat.fct.unl.pt/

Conference:

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课件 --- 半导体器件物理&微电子学

存档两个不错的半导体器件物理&微电子学 课程课件网址：

桂林电子科技大学：
http://bb.gliet.edu.cn:88/netkc/%E7%8E%B0%E4%BB%A3%E5%8D%8A%E5%AF%BC%E4%BD%93%E5%99%A8%E4%BB%B6%E7%89%A9%E7%90%86%E4%B8%8E%E5%B7%A5%E8%89%BA/index.asp

北京大学微电子所：
http://ime.pku.edu.cn/course/wdzxgl/outline.html


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JPD -- SPECIAL CLUSTER ON PLASMA-AIDED FABRICATION OF NANOSTRUCTURES AND NANOASSEMBLIES

Journal of Physics D Volume 40, Number 8, 21 April 2007

http://www.iop.org/EJ/toc/0022-3727/40/8

SPECIAL CLUSTER ON PLASMA-AIDED FABRICATION OF NANOSTRUCTURES AND NANOASSEMBLIES

EDITORIAL REVIEW
2223

IOP Physics
Reviews Plasma-aided nanofabrication: where is the cutting edge?
K Ostrikov and A B Murphy
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (2.03 MB)

CLUSTER PAPERS
2242
Plasma nanofabrications and antireflection applications
J Shieh, C H Lin and M C Yang
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.12 MB)

2247
A plasma process for the synthesis of cubic-shaped silicon nanocrystals for nanoelectronic devices
Ameya Bapat, Marco Gatti, Yong-Ping Ding, Stephen A Campbell and Uwe Kortshagen
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (890 KB)

2258
Synthesis of silicon nanocrystals in silane plasmas for nanoelectronics and large area electronic devices
P Roca i Cabarrocas, Th Nguyen-Tran, Y Djeridane, A Abramov, E Johnson and G Patriarche
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.21 MB)

2267
Transport of nano-particles in capacitively coupled rf discharges without and with amplitude modulation of discharge voltage
Kazunori Koga, Shinya Iwashita and Masaharu Shiratani
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (781 KB)

2272

IOP Physics
Reviews Metal plasmas for the fabrication of nanostructures
André Anders
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.62 MB)

2285

IOP Physics
Reviews Factors determining properties of multi-walled carbon nanotubes/fibres deposited by PECVD
M S Bell, K B K Teo and W I Milne
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.51 MB)

2293
Structure and properties of zirconia (ZrO2) films fabricated by plasma-assisted cathodic arc deposition
Weifeng Li, Xuanyong Liu, Anping Huang and Paul K Chu
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.52 MB)

2300
Behaviour of oxygen atoms near the surface of nanostructured Nb2O5
U Cvelbar and M Mozetic
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (367 KB)

2304
Chemically active plasmas for deterministic assembly of nanocrystalline SiC film
Q J Cheng, J D Long, Z Chen and S Xu
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (640 KB)

2308
Nanostructures of various dimensionalities from plasma and neutral fluxes
I Levchenko and K Ostrikov
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.43 MB)

2320

IOP Physics
Reviews New type of BN nanoparticles and films prepared by synergetic deposition processes using laser and plasma: the nanostructures, properties and growth mechanisms
Shojiro Komatsu
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (5.63 MB)

2341
Plasma assisted production of chemical nano-patterns by nano-sphere lithography: application to bio-interfaces
Andrea Valsesia, Tarik Meziani, Frédéric Bretagnol, Pascal Colpo, Giacomo Ceccone and François Rossi
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.57 MB)

2348
Control of particle size and phase formation of TiO2 nanoparticles synthesized in RF induction plasma
J-G Li, M Ikeda, R Ye, Y Moriyoshi and T Ishigaki
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.26 MB)

2354
Thermal plasma synthesis of nanostructured silicon carbide films
Steven L Girshick and Jami Hafiz
Abstract References Full text: Acrobat PDF (1.57 MB)

2361

IOP Physics
Reviews Carbon nanostructures production by gas-phase plasma processes at atmospheric pressure
J Gonzalez-Aguilar, M Moreno and L Fulcheri
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (2.19 MB)

2375
Large-scale production of single-walled carbon nanotubes by induction thermal plasma
Keun Su Kim, German Cota-Sanchez, Christopher T Kingston, Matej Imris, Benoit Simard and Gervais Soucy
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (2.16 MB)

2388
Factors affecting synthesis of single wall carbon nanotubes in arc discharge
Michael Keidar
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (202 KB)

2394
Suspension and solution plasma spraying of finely structured layers: potential application to SOFCs
P Fauchais, R Etchart-Salas, C Delbos, M Tognonvi, V Rat, J F Coudert and T Chartier
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (3.66 MB)

2407
Growth mechanism of silicon-based functional nanoparticles fabricated by inductively coupled thermal plasmas
M Shigeta and T Watanabe
Abstract References Citing articles Full text: Acrobat PDF (1.71 MB)

TOPICAL REVIEW
R121

IOP Physics
Reviews Complex plasma: dusts in plasma
Osamu Ishihara
Abstract References Full text: Acrobat PDF (1.24 MB)


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Book: 《等离子体放电原理与材料处理》兼等离子体材料处理教材之面面观

最近从当当网上邮购了几本书，其中一本是UC Berkeley 教授Michael A.Lieberman and Allan J.Lichtenberg专著《Principles of Plasma Discharges and Materials Proce 》的中译本《等离子体放电原理与材料处理》清华蒲以康教授译（07年出版）。虽然曾有英文第一版电子版，但是出现中文版的时候还是毫不犹豫的买了一本。自己对此书的评价很简单：自己眼中本专业方向研究生在学期间最值得必读精读的两本书之一（另一本是阿杜的《电子薄膜科学》），可惜知之甚晚，不过希望现在亡羊补牢，犹时未晚。

【内容提要】本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
【作者简介】迈克尔·A·力伯曼，博士，加利福尼亚大学伯克利分校电子工程研究生院教授，曾发表170多篇有关等离子体、等离子体材料处理和非线性动力学方面的研究论文，而且同里登伯格教授合著有RegularandStochasticMotion和RegularandChaoticDynamics（第二版）。

摘录：等离子体材料处理教材之面面观

摘自：http://www.chinaecnet.com/ele/el063961.asp

本文摘自《电子工业专用设备》
黄梦琦，蒲以康 （清华大学工程物理系 北京 100084）
......
5 对现有书籍的比较

根据上文对不同的教材提出的理想要求，下面将对市场上销售的主要离子体相关书籍进行分析比较，进而了解当前等离子体材料处理方面教材的现状。

5.1 中文书籍

（1）《低温等离子体化学及其应用》

主要内容：从化学科学的角度对低温等离子体的基本概念、等离子体的诊断方法、等离子体化学反应的机理、基本反应过程、动力学模型的建立方法、等离子体聚合反应、等离子体引发聚合反应、等离子体表面处理的基础规律及其应用、氧等离子体化学及应用、已实用化的等离子体CVD技术作了系统的论述和介绍，并提供了涉及多个领域的应用信息[9]。

适合对象：本书完全从化学的立场来解释等离子体化学反应，强调的是等离子体化学技术在高分子聚合物材料方面的应用，而对等离子体化学技术在电子工业中的应用基本负责没有介绍，因此本书比较适合那些对分子聚合物材料加工和应用感兴趣的读者阅读，而对于我们选择教材来说，这本书中详细介绍的等离子体聚合化学并不是刻蚀化学，对微电子制造技术和薄膜沉积技术的指导意义不大，因此对于培养专家级研发人和技术人员来说，这本书都不合适。

（2）《等离子体化学与工艺》

主要内容：本书基础部分介绍了等离子体的性质、特点、化学反应规律及等离子体的发生方法和反应装置原理，应用部分介绍了等离子体在化学合成、薄膜制备、高分子聚合、高分子材料表面处理及半导体器件工艺领域的应用[10]。

适合对象：这本书关于实际应用部分的介绍重要放在了等离子体聚合化学方面的应用，虽然有涉及到溅射制膜的知识，但该过程只是物理过程，而并没有谈到刻蚀化学，对等离子体化学在电子工业上应用的介绍也很少，这主要是受到了国内研究趋势的影响，即国内对等离子体刻蚀技术的研究基础非常薄弱，过去的研究大部分仅限于等离子体聚合化学方面，涉及刻蚀化学的非常少，因此本书也不合适作为培养专家级研发人才和普通技术人员的教材。
（3）《等离子体加工技术》

主要内容：本书介绍了离子体加工技术原理及其应用，包括等离子体基本性质、等离子体的形成、等离子体诊断、等离子体加工技术中的物理化学问题，并重点介绍了化学气相沉积（VCD）、物理气相沉积（PVD）、刻蚀的等离子体设计及其应用[11]。

适合对象：虽然这本书比前两本书所覆盖知识面更广，但本书仅也只有8章159页，因此对原理和应用大多只能是简单介绍，而不可能在等离子体加工技术方面有深入分析。另外，本书出版于1990年，因此书中介绍的理论和应用都是20世纪80年代的内容，引用的文献更是古老，大多是1979、1980年的文献，当时对等离子体理论的研究还刚起步，实验和实际生产方面也很落后，而最近一段时间，等离子体刻蚀技术取得了突飞猛进的发展，以前的旧的理论早已和现在的实际生产脱节，无法指导现代化的生产，因此本书也不适合作为培养专家级研发人和普通技术人员的教材。

（4）《低温等离子体物理基础》

主要内容：本书系统地阐述了低温等离子体物理学的基础理论，包括低温等离子体的概述及基本性质，低温等离子体微观和宏观的理论描述，等离子体的产生诊断，电弧等离子体和高频等离子体物理，其中对低温等离子体的基本规律、粒子碰撞理论及存在电磁场时稠密低温等离子体的流动理论进行了深入的分析，最后简要揭示了等离子体的技术应用[12]。

适合对象：本书虽然题目是关于低温等离子体的，但内容中重点介绍的却是热等离子体（由电弧放电产生，接近热平衡的等离子体）理论、分析、描述的过程都是关于热等离子体的，而集成电路制造过程中用到的等离子体却是低温等离子体（由辉光放电产生，非热平衡的等等离子体）另外，本书出版于1983年，同样编写年代也太早，对于最新的研究成果多没有介绍，总结以上两个原因，本书并不适合作为培养等离子体材料处理方面人才的教材。

（5）《等离子体电子工程学》

主要内容：先从微观角度出发，了解等离子体中单个粒子的运动规律以及粒子间的碰撞过程，然后从控制角度把等离子体看作一个整体，考察其总体的平均行为特性，接着介绍从气体放电到等离子体诞生的发展过程，最重要的一部分是介绍生成等离子体的各种方法；用质量放电来生产低温等离子体的方法和用高频放电和微波放电法生产等离子体的方法，因为应用等离子体技术的一个重要方面是根据不同用途选择最合适的等离子体生成方法，最后介绍了等离子体在尖端电子制造和环境改善技术中的应用[13]。

适合对象：因为本书的编写目的是作为教授大学生等离子体课程的教科书，因此内容并不十分深奥，语言非常易懂。并且本书对等离子体在集成电路制造工艺中的应用介绍较浅显，只是对等离子体刻蚀方法作了一般性的描述，所以适合对等离子体相关知识刚入门的读者作为一本科普读物来阅读，以掌握等离子体的一些基本特性和生成方法，并不适合作为培养等离子体材料处理方面人才的教材。

（6）《等离子体物理学导论》 主要内容：本书作者是实验等离子体物理学方面的出色科学家。本书涉及等离子体流体方程、扩散和电阻率、分布函数和动力方程、等离子体中各类不稳定性和朗道阻尼等内容，本书对等离子体物理的相关概念，公式和原理作了详细的解析和论证，而对具体的等离子体技术应用的内容基本上没有涉及，因此这是一本纯粹教授等离子体物理理论的教科书[14]。

适合对象：因为本书是从加州大学洛杉矶分校的等离子体物理大学课程的讲课笔记发展而成，因此从难易程度来说非常合适作为学习和研究等离子体物理学知识的入门教材，但本书介绍的主要内容是关于等离子体受控核聚变的，并没有介绍低温等离子体的碰撞，激发现象及其材料的作用原理，因此并不适合那些学习低温等离子体物理的读者，另外由于本书编写的年代较早，（1981年），因此从内容和编写年代来说，本书都不适合作为培养低温等离子体材料处理方面人才的教材。

5.2 英文书籍

（1） Handbook of Advanced Plasma Proce ing Techniques

主要内容：本书介绍了等离子体物理基本概念，等离子体和材料处理模型，等离子体诊断，等离子体诱发的损伤和各种应用，如光掩模、微电子机械技术、半导体刻蚀、高密度等离子体沉积和磁性材料刻蚀等。本书介绍的重点放在材料处理的实际应用，对于各种刻蚀技术和刻蚀材料都做了详细介绍[15]。

适合对象：本书英文书籍是专门针对等离子体材料处理技术的一本技术手册，内容覆盖等离子体刻蚀技术的各个方面，如设备的使用方法，装配方法、设备的特点、刻蚀速率等参数如何调整等等，因此对于我们急需培养的等离子体材料处理方面的技术人员来说，这本书是一本全面专业的实用手册，但对于专业人员来说，这本书对于等离子体物理化学内容的介绍可能较少，因此不能完全满足这些读者对于基础理论的学习需要，必须结合另外的专门介绍等离子体物理化学基础理论的书籍一起学习。

（2） Principles of Plasma Discharges and Materials Proce ing

主要内容：全书共18章，依次介绍了等离子体的基本方程和平衡态性质、原子碰撞、等离子体动力学、扩散和输运、直流鞘层、化学反应和平衡、分子碰撞、化学动力学与表面过程、放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性放电、感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体、气体放电的动力学理论，该书作者凭借积累多年的研究经验，在书中全面具体的介绍了近一二十年的等离子体材料处理技术和设备的发展过程，既有理论介绍，又有实际应用的部分，可以说是一本系统的等离子体材料处理方面的百科全书[16]。

适合对象：本书从物理原理上对各种放电模式的物理模型、刻蚀跟等离子体物理之间的关系进行分析，重点介绍如何将理论知识和实际技术和设备联系起来，这正是专业人才应该掌握的知识。该书内容全面，介绍由浅入深，非常适合作为教材使用，对于培养等离子体材料处理方面的各种不同人才来说都是一个很好的选择。

6 结果与讨论

总结以上分析比较的这些书籍，可以发现国内现有书籍的内容要么侧重等离子体聚合化学及应用，要么侧重等离子体受控核聚变的介绍，并且书籍发行的年代都十分古老，中文相关书籍缺少的是专门介绍低温等离子体材料处理处理方面的书籍，特别缺少那些介绍如何将等离子体基础知识和实际应用中等离子体离子体刻蚀工艺和刻蚀设备相结合的书籍，教材市场的这种现状是肯定不能满足国内对等离子体材料处理方面的教材的需要，而国外在这方面做的较好，不少介绍这方面先进技术的权威书籍都值得我们学习借鉴。因此读者在选择合适的等离子体材料处理方面的教材的时候，可以适当偏重英文教材。

要想改变我国等离子体材料处理方面教材市场的这种现状，我们应该以国外的优秀书籍为编写目标，努力编写出符合中国国情的等离子体材料处理方面的教材，另外，直接阅读英文书籍对于实际教学来说还是有困难的，因此我们也需要更多优秀的英文书籍的中译版。

最后，除了编写教材之外，还是很多其他的措施也能够促进我国等离子体刻蚀技术的发展，例如：建议教材编写者更多的进行实践；鼓励技术人员和研发人员参加企业举办的短训班或者实习，建立国家级研发中心，加大人才引进力度等。
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MRS Bulletin 0703: Advanced Inorganic Materials for Photovoltaics

Excerpted from:
http://www.mrs.org/s_mrs/sec_subscribe.asp?CID=8656&DID=193233

Advanced Inorganic Materials for Photovoltaics
Volume 32, No. 3
BUY THIS ISSUE

Guest Editors: Abdelilah Slaoui and Reuben T. Collins

By 2050, world annual energy consumption is predicted to grow from the present 13 terawatt-years (TWyr) to near 30 TWyr. Although all energy sources must be considered in meeting this challenge, sunlight is a plentiful source able to supply a significant amount of energy cleanly (without CO2 emission), if it can be captured efficiently and cost-effectively using photovoltaic materials. This issue of MRS Bulletin reviews the status and future development of solar photovoltaic technologies based on inorganic materials, covering cadmium telluride, amorphous silicon, quantum dots, multijunction solar cells, transparent conductors, and other innovations. We invite you to view the introductory article for this issue, "Advanced Inorganic Materials for Photovoltaics" by Abdelilah Slaoui and Reuben T. Collins, Guest Editors.

Article - Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon, and Thin-Film Polycrystalline Silicon Solar Cells
Ruud E.I. Schropp, Reinhard Carius, and Guy Beaucarne

Theme Article - Materials Challenges for CdTe and CuInSe2 Photovoltaics
Joseph D. Beach and Brian E. McCandless

Theme Article - High-Efficiency Multijunction Solar Cells
Frank Dimroth and Sarah Kurtz

Theme Article - Solar Cells Based on Quantum Dots: Multiple Exciton Generation and Intermediate Bands
Antonio Luque, Antonio Martí, and Arthur J. Nozik

Theme Article - Transparent Conducting Oxides for Photovoltaics
Elvira Fortunato, David Ginley, Hideo Hosono, and David C. Paine

Abstract
Transparent conducting oxides (TCOs) are an increasingly important component of photovoltaic (PV) devices, where they act as electrode elements, structural templates, and diffusion barriers, and their work function controls the open-circuit device voltage. They are employed in applications that range from crystalline-Si heterojunction with intrinsic thin layer (HIT) cells to organic PV polymer solar cells. The desirable characteristics of TCO materials that are common to all PV technologies are similar to the requirements for TCOs for flat-panel display applications and include high optical transmissivity across a wide spectrum and low resistivity. Additionally, TCOs for terrestrial PV applications must use low-cost materials, and some may require device-technology-specific properties. We review the fundamentals of TCOs and the matrix of TCO properties and processing as they apply to current and future PV technologies.

Technical Feature - Reconstruction of Historical Alloys for Pipe Organs Brings True Baroque Music Back to Life
Brigitte Baretzky, Milan Friesel, and Boris Straumal

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转载 何毓琦：一个大学教授在美国的生活

转载一篇很不错的文章，此外作者也开了个blog：
http://www.sciencenet.cn/blog/何毓琦.htm

Excerpted from:
http://www.sciencenet.cn/htmlnews/2007511193241937179076.html

一流大学研究晋级两大黄金法则：成名要趁早 报告要做好

哈佛大学终身教授、美国工程院院士、中国科学院及中国工程院外籍院士何毓琦博士长期从事系统控制科学及工程应用研究，在最优控制、微分对策、团队论、离散事件动态系统和智能系统等方面做出了重大贡献。是动态系统现代控制理论的创导者之一。何毓琦博士长期致力于祖国大陆的科研发展，不但培养了多名中国学生，更在2001年受聘清华讲座教授。何毓琦博士以敢于针砭时弊闻名科学界，2007年4月25日入驻科学网博客以来，受到网民的热烈欢迎。现根据部分网民的要求，全文翻译《一个大学教授在美国的生活》（Life of an Academic in the US）一文，希望对中国读者有所帮助。


除了在工业界全职工作了三年，我的整个学术生涯都是在美国渡过的。尽管我一直只供职于一所大学，我在伯克利、得克萨斯大学奥斯丁分校、伦敦帝国学院做过整学期的访问学者，而且还对全世界无数学校和研究机构进行过短期访问。因此，将我40余年的经历与科学网的中国读者分享大概是一件有意义的事情。此外，在适当的时候，我愿意将这些在美国的经历与中国的情况相对照。当然了，美国大学的种类很多，我将主要讨论研究型大学。一些非常优秀的纯教学院校则不在我的讨论范围之内，如马萨诸塞州威廉姆镇的威廉姆斯学院（Williams College）和宾夕法尼亚州费城的斯沃特穆尔学院（Swarthmore College）。最后，下面写的都是我的个人经历，请不要当作典型或者真理。

在一流大学晋升主要通过两种途径。第一，成为一名伟大的教师（仅仅优秀是不够的）。也就是说，你能够在教授常见本科课程，比如基础经济学、基础物理、计算机入门等课程的时候发挥创造性和组织能力。这说起来容易，做起来难。因为从学术水平上讲，一个系里能够教这种课的老师很多，你必须表现出超常的教学和创造力。另外，学校里选课人数众多的本科课程其实很少。我在哈佛待了40多年，经常看到非常优秀甚至近乎伟大的老师没有拿到终身职位，不得不离开哈佛。（注：美国大学盛行一种制度，即所谓的“七年试用期”，在这七年里，你要么拿到终身职位，要么走人。不遵守这“七年试用期”的学校会被列入美国大学教授联合会的黑名单。）

另外一个晋级的途径当然就是搞研究了。教学基本上只是一个本地行为，而研究则是世界性的。对学校来说，一流的研究工作的性能价格比比教学要高的多，因此学校更看重研究。然而在一流大学里，你的竞争对手是全世界的研究人员。比如在哈佛，在决定你是否能够拿到终身教职的时候，学校会特意把你与世界上同领域的权威放在一起比较。

我是在1965年拿到哈佛的终身教授职位的，那之后的30年里，我们系没有授予任何一位系统科学领域的年轻教授终身职位。尽管哈佛校长和各系主任绝对不敢承认，我早早就意识到而且不断地教导年轻同事们：“哈佛付你钱是为了让你维护并不断提高它的世界声誉的，别的都是次要的。” 因此黄金法则一：尽早建立你的国际学术声誉。

为了搞研究，你必须有经费、有学生。实际上，如果没有经费，你根本不可能供得起学生。在美国，尽管有各类奖学金，大多数研究生还都依靠导师的科研经费支持着。一般一个研究生一年要花掉导师五万美元。如果你的组里一直保持五到六个研究生的话，你每年最低必须保证25万美元左右的预算，而你必须和全美国的同领域科学家们竞争来争取这些经费。你不用指望研究生的头两年能有什么回报，博士生只有到了第三年第四年才开始出成绩，所以导师在录取研究生的时候是做出了很大投资的。我认识不少同事，跟我发誓赌咒再也不招中国学生了，因为他们来一两年就跑掉了，要么转去一个更好的学校，要么有了别的什么机会。不错，美国是一个自由的国家，从法律角度看，学生没有义务必须读完博士，但是从道德角度讲，导师在你身上花了那么多钱，你应该肩负起你的责任。然而，并不是所有中国学生都意识到这一点，这种行为对于后来想来美国读书的中国学生来说等于是过河拆桥。

还有，一个一线大学教授至少要花25%的工作时间在编写基金申请书、准备研究报告和撰写论文上。因此黄金法则二：擅长写作和演讲，了解什么是最前沿的课题，也就是所谓的“时势造英雄”。（当然了，如果你能开创一个崭新的研究领域，而且能够说服全世界这就是最前沿的，那就更棒了，所谓“英雄造时事”。）

黄金法则一和黄金法则二意味着你必须让全世界知道你是谁。怎么才能做到这一点呢？在优秀的学术期刊上发表文章，在学术会议上好好介绍你的研究。很多科学家以为搞科研是最最重要的，相比之下，写论文和做报告不那么重要。但是实际上，除非你提出了相对论或者搞定了人类基因图谱，你的研究要跟成千上万和你一样聪明的人竞争。实际上，我个人认为，有个好想法，写篇好文章和给个好报告是三项独立的而且同等重要的工作。每一项工作要付出的艰苦努力都是完全不同的。要想做个好报告，仅仅从论文里复制拷贝制作一套PPT是远远不够的，对着论文照本宣科也是远远不够的。我们经常看到一些本来才华横溢的科学家做的报告惨不忍睹，令人不忍卒听。实际上，一个好的报告应该能够让一般听众听懂，同时又给专家同行留下非常深刻的印象。统计数据表明，一篇普通的发表了的科技论文的读者只有5位，其中还包括了论文的编辑和审稿人。但是，一次优秀的讲座的听众可能多达数十人、数百人甚至数千人。大多数听众一个月后大概都不记得你讲座的具体内容了，但是多年以后他们可能还会记得，你的那次讲座非常成功。这种针对听众的讲座能给你带来许多意想不到的好处。目前，各种政府基金管理机构的官员参加大大小小的会议，主要就是为了了解最热门的研究领域，发现那些值得资助的人。你给报告的时候他们很可能就坐在听众中间。那么，让你的报告清晰易懂的重要性就显而易见了。然而，我还是不断地碰到很多研究出色的科学家在做报告的时候完全无视听众的存在，报告晦涩难懂，让人觉得他非常傲慢无礼。我年轻的时候，如果听不懂别人的报告，就怪自己无知；现在，如果我听不懂一个人在说些什么，我就怪那个作报告的人。让报告清楚明白、不浪费我的时间是他的责任。我的座右铭是“完全可以让任何人在任何特定时间内适当地明白任何事情。”

多年以来，投身学术研究意味着接受一种较为贫穷的生活方式，因为学校的工资低于工商业界，但是至少在科学技术领域，情况已经大为改观。为工业界做咨询可以大大增加你的收入，但是做咨询的真正好处在于你处理的是一些实际问题，你经常会受到这些实际问题的启发，转向新的研究方向。而且你取得任何一点成绩都会有一支“拉拉队”自动为你欢呼加油。你根本不需要付出额外的努力，说服别人你的工作很重要。你也不会钻牛角尖，在一些没人感兴趣的问题上浪费时间。几乎所有的美国大学都意识到咨询的这一好处，允许教授每周一天时间用于咨询工作。就我而言，我在整个学术生涯中都不断地从事咨询工作，而且我敢说我所有绝妙的研究想法都来源于某项咨询工作，尽管一开始的时候，我对这项咨询项目所知甚少。合适的咨询工作会创造“三赢”的局面：客户赢、学校赢、你也赢。

投身科研的另外一个次要好处是你可以借参加国际会议的机会周游五湖四海。商业界的人出差，时间都很紧，基本上来去匆匆，没什么休闲的机会。但是研究人员出差，会前会后都能找出观光的时间来（比方说王鸿飞博士的博客里写到的）。比起旅行的全部费用，你自费的部分是很少的。有本旅游手册叫做《有生之年必去的1000个地方》，我在40余年的学术生涯里，已经和我太太去了这1000个地方中的230个，还不算很多这本书没有列出来的地方。中国有句古话叫做“走千里路胜读万卷书。”旅行能够让你增长见识，而且在学术界你会和很多第一次见面的国际同行交上朋友，因为你们的研究兴趣相投，所以能够一见如故。他们是你最好的导游。（注：有一次，我让我的一个中国研究生招待一位南美同行，她回来以后非常兴奋，告诉我说这个陌生人竟然能够理解她的博士论文研究中的种种精妙之处，尽管他们来自两个隔着千山万水的不同国家，年龄相差很多而且以前从未谋面。）

至于研究的乐趣嘛，当你在数个月的艰苦工作后第一次有了不错的发现，你会陷入几秒钟的狂喜——全世界你是唯一一个认识这个真理的人。这样的感觉只可意会不可言传。你坐立不安，来回踱步，彻夜难眠，有时候甚至会高兴到胃疼的地步。我没有在商业界待过，不能百分之百肯定，但是我想这种发现的喜悦大概不亚于赢得一个大订单或者在股市大有斩获。要是我一年能享受一次这样的喜悦，我就很满足了。一个人回顾他的学术生涯，审查他一生撰写发表的所有文章，也许只有10％能够经受时间的考验。这和旅行很相似。你很高兴去过很多地方，但是只有几个地方让你终身难忘。

最好的一点是，搞研究的人时间比较自由，基本上你可以自行安排。你是你自己的老板。和普通商业界人士比起来，除了申请经费，你不得不做的无聊重复的工作要少很多。你可以在你真心喜欢的工作上投入差不多50％的时间和精力。我一直告诫我的学生，如果你50%的时间喜欢你正在做的工作，那么这就是一个非常棒的工作！因为你喜欢你的工作，所以你会格外刻苦。节假日和平时没有区别。一天工作20个小时、一周工作100个小时更是家常便饭。我已经这把年纪了，而且正式退休了，每天醒着的一半以上的时间还花在学术上。

通过在中国的所见所闻，还有我在科学网博客上读到的，我发现中国的学术生活正在变得越来越国际化，和世界其它地方越来越像了。我期待着将来与科学网和其它地方的同行们更多地交换意见。（科学网 何姣译）


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<大面积玻璃镀膜> （德）格雷瑟

本书为大面积玻璃镀膜技术领域专著。介绍了利用薄膜技术对平板玻璃进行重新定义深加工的可能性与商机。玻璃薄膜可以分成两大方问：真空条件下的物理工艺和大气条件下的化学工艺。各种玻璃镀膜产品有着广泛的应用。本书对其历史现状及其发展前景作了详尽的论述及预测，也对各种镀膜技术的优缺点进行了比较。更为难能可贵的是，作者把近年来镀膜的最新技术也做了介绍。本书可供从事本专业的大学师生、工厂企业技术人员学习之用。


作者：（德）格雷瑟 著，董强 译 出版社：上海交通大学出版社 出版日期：2006-4-1 ISBN：7313042361 字数：417000 印次：1 版次：1 纸张：铜版纸
目录
第1章 平板玻璃
1.1 平板玻璃简史
1.2 浮法玻璃
1.3 平板玻璃的化学成分及结构
1.4 平板玻璃的性能
1.4.1 光学性能
1.4.2 力学性能
1.4.3 热性能
1.4.4 电性能
1.4.5 化学稳定性
1.5 平板玻璃的市场
第2章 镀膜赋予了平板玻璃崭新的含义
2.1 平板玻璃深加工工艺的分类
2.2 利用表面处理技术对玻璃进行深加工
2.3 镀膜工艺及膜层
2.4 平板玻璃膜层及其要求
2.5 镀膜工艺、镀膜材料和平板玻璃表面之间的相互作用及其对膜层性能的影响
第3章 表面条件及其对膜层的影响
3.1 平板玻璃的原始表面
3.2 玻璃表面的腐蚀
3.2.1 腐蚀的起源及其对膜层的影响
3.2.2 避免和去除腐蚀层的方法
3.2.3 玻璃表面腐蚀的检查
3.3 平板玻璃表面上的杂质
3.4 平板玻璃表面在镀膜前的准备
3.4.1 对用于镀膜平板玻璃表面洁净度的要求
3.4.2 用于镀膜的平板玻璃片的清洁工艺
3.4.3 预处理后的平板玻璃表面的检查
第4章 平板玻璃的薄膜技术
4.1 薄膜技术的分类和要求
4.2 用于平板玻璃镀膜的溅射沉积真空工艺
4.2.1 在平板玻璃上镀膜的溅射工艺的应用领域
4.2.2 溅射沉积的原理
4.2.3 非反应溅射
4.2.4 反应溅射
4.2.5 溅射技术
4.2.5.1 直流和交流溅射
4.2.5.2 磁控溅射
4.2.6 平板玻璃镀膜中使用的靶材及其生产加工
4.2.7 溅射镀膜设备和工艺
4.2.7.1 箱式设备的溅射沉积
4.2.7.2 镀膜生产线的溅射沉积
4.3 用于平板玻璃镀膜的化学工艺
4.3.1 化学还原工艺
4.3.1.1 化学还原镀膜中的化学过程
4.3.1.2 采用化学还原工艺的镀膜技术
4.3.2 热平板玻璃上的化学镀膜
4.3.2.1 热平板玻璃表面上膜层的化学反应
4.3.2.2 液体喷淋技术的镀膜
4.3.2.3 化学气相沉积（CvD）技术的镀膜
4.3.3 溶胶一凝胶镀膜
4.3.3.1 溶胶一凝胶镀膜的化学过程
4.3.3.2 溶胶一凝胶镀膜技术
4.4 等离子体辅助CⅧ
第5章 薄膜平板玻璃产品
第6章 基于镀膜平板玻璃的电可控产品
第7章 基于平板玻璃的薄膜太阳能电池的光电池模块
附录
AⅠ.利用导纳法来计算膜系在阳光辐射范围内的光谱行为
AⅡ.导电膜层在长波长范围内的光谱性能的计算
AⅢ.如何计算在没有人射阳光辐射(夜晚)时的外表面温度
AⅣ.颜色及色彩重现
参考文献
第1章 平板玻璃
第2章 镀膜赋予了平板玻璃崭新的含义
第3章 表面条件及其对膜层的影响
第4章 平板玻璃的薄膜技术
第5章 薄膜平板玻璃产品
第6章 基于镀膜平板玻璃的电可控产品
第7章 基于平板玻璃的薄膜太阳能电池的光电池模块
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